我们用羲之，先刻画出一个16纳米周期的基础图案，然后通过多次、精准的沉积和蚀刻，在母版上，自我生长、复制出周期为4纳米的结构！
这在工艺上，极其复杂，但在理论上，是完全可行的！”
林燃鼓掌道：“没错，数学层面的问题我帮你们已经解决了，母版的制造需要靠各位的努力，它绝对不会容易，但也绝对能够实现。
最后一步的刻录，有从佳能进口的NIL光刻机来帮我们做到！
一旦成功，依托华国的制造能力，我们将激活史无前例的7nm制程。
这段时间霓虹给我们转让的，已经充分成熟的28nm制程技术，加上这套超构透镜，我们足以攻克稳定的14nm光刻机。
而结合国内已经充分成熟的双重曝光技术，7nm的制程也不在话下。
如果不考虑良品率，结合四重曝光，极限是3.5nm。
已经离国外最先进的2nm只有一步之遥了。”
林燃的话让台下的专家们响起了雷鸣般的掌声，过去谁敢想，现在3.5nm的制程我们都能摸一摸了。
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