（我国首台6nm的电子束光刻机-羲之，来自HZ市政府官网，不知道为啥国内媒体没咋报道，完全没热度）
“羲之和传统的光刻机不同。”杨院士接着说道：“它不需要掩膜版，而是通过计算机控制，用一道能量极高的、被聚焦到极致的电子束，直接在硅基材料上书写电路。
因此，它可以随时修改设计，反复调试，特别适合芯片研发初期的验证，以及制造像超构透镜母版这样、独一无二的超高精度元件。”
最后杨院士深吸了一口气，报出了那两个让所有人屏息的数字：“它的性能指标，最小稳定线宽为8纳米，电子束定位精度为0.6纳米。”
“这不可能！定位精度0.6纳米？这精度是不是太夸张了？”
“0.6纳米？比老美的精度还要更高？”
“那岂不是意味着我们能造0.6纳米的透镜？卧槽，这回是光源跟不上镜头了。”
杨院士的脸上是掩饰不住的自豪，这可是我们浙大搞的！
“为了让大家理解，我继续用笔来做比喻。
8纳米线宽，是羲之这支笔，在宣纸上能写出的稳定清晰的那个笔锋。
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