如果没有蔡司不卖给ASML那套占其整机成本近40%的、由十几面完美反射镜组成的投影镜头系统，华国的EUV光刻机就算解决了99%的问题，它也没有办法上生产线。
而随着佳能的FPA-1200NZ2C，5纳米NIL光刻机已经在申海安装调试完毕后，林燃知道解决光刻机问题的时间点到了。
由华国官方组织，提前在申海微电子所安排好了人员和场地，包括佳能的NIL光刻机也放在申海微电子所。
该来的人都到齐后，林燃才进场。
“众所周知，我们离EUV光刻机最大的差距就在于镜片，这不是人力、时间和意志能够让我们在短时间内克服的。
误差在皮米级的镜片，而且是十多面，每一面之间还要有耦合关系，这是物理极限，是材料科学和精密加工的天堑，不是靠意志就能克服的。”
会议室里，一片死寂。
林燃的这番话，大家早就知道了，内部开会也好，向上汇报也好，都反应过无数遍，这就是我们面临最大的困难，只能慢慢靠时间磨出来。
靠量堆上去，堆出一个好的结果。
还需要你跑来说？
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