你的笔有多细，决定了你的母版有多精细。
而我们，我们国产的、最先进的电子束写入机，能稳定刻画的最小线宽，是65纳米。
用65纳米的笔，去雕刻5纳米的图案，这是不可能的。”
多电子束写入机是一种用于高精度图案转移的先进半导体制造设备，通过使用多个电子束同时在晶圆上写入图案。
梁孟松说的更常见一点的名词叫掩膜版，光透过掩膜版在硅片上印上图案，掩膜版的精度决定了硅片上集成电路的精度。
用来制作掩膜版的机器就叫多电子束写入机，它一次只能制作一块掩膜版，适用于小批量、高复杂性的图案制造需求。
总结来说，没有最先进的电子束写入机，就无法制造出用于生产最先进芯片的掩膜版。
它是整个半导体制造产业链的“源头”，其战略重要性，丝毫不亚于EUV光刻机本身。
全球最先进的、用于EUV级别的多电子束掩膜写入机，其市场被奥地利的IMSNanofabrication公司，现已被英特尔绝对控股。
另一家霓虹公司NuFreTeology也在研发，但市场份额和技术应用广度上都有差距，这是东芝的子公司。
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